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PLASMAANLAGEN - STANDARDANLAGEN

 

[ FEMTO UHP]

   
  Die 1,9-Liter-Laboranlage FEMTO UHP mit halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
  • Kleinserienfertigung
  • Analytik (REM, TEM)
  • Medizintechnik
  • Forschungs- und Entwicklungsabteilungen
  • Halbleitertechnik
  • Kunststofftechnik


UHP steht für Ultra High Purity. Diese Bezeichnung gilt für die Glasrezipienten unserer Plasmaanlagen, diese können je nach Kundenwunsch aus Borosilikatglas oder Quartzglas sein. Die Option UHP ist nur für folgende Anlagen erhältlich: Femto, Pico und Nano.

Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet.


  Prospekt FEMTO (PDF 1007 KB)
 
Da die Anlagen keinen Edelstahl - Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind.


Alle Plasmasysteme können in den verschiedensten Variationen kombiniert werden. Die folgende Übersicht soll zu einem Überblick über die gängigsten Anlagen verhelfen.
   
 

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP

Schaltschrank:
B 345 mm, H 220 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Gaszuführung:
1 Gaskanal über Nadelventil
Generator:
40kHz/100W, stufenlos
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:

1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer

Optionen / Zubehör



 
Plasmaanlage FEMTO UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 8) : Prozessentwicklung, Reinigung,
Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage


Technische Daten:
Plasma System Femto UHP
(mit Scharniertür)

Schaltschrank:
B 560 mm, H 310 mm, T 600 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
1 Gaskanal über Nadelventil
Generator:
40kHz/100W, stufenlos
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:

1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer

Optionen / Zubehör



 
Plasmaanlage FEMTO UHP(mit Scharniertür) für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 9) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
   
 

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP



Schaltschrank:
B 562 mm, H 211 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventile
Generator:
40 kHz/100W, stufenlos regelbar
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer
Druckmessgerät:
Pirani

 

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO LF UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme

Kleinanlage FEMTO UHP (Version 10) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung,
Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
 


 

Technische Daten:
Plasma System Femto-PC UHP



Schaltschrank:
B 500 mm, H 460 mm, T 550 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
3 Gaskanäle über je einen MFC
Generator:
40 kHz/0-100 W
(Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz)
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
PC-Steuerung unter Windows
(siehe unsere Seiten über PC-Steuerung)

 

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO PC UHP für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Kleinanlage FEMTO-PC UHP (Version 11) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage
   
   

Technische Daten:
Plasma System Femto UHP



Schaltschrank:
B 320 mm, H 500 mm, T 420 mm
Kammer:
Ø 95 mm, L 270 mm, Öffnung Ø 90 mm
Werkstoffe:
Quarz oder Borosilikatglas Vorder-u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 1,9 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventile
Generator:
40 kHz/100W, stufenlos regelbar
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ S1,5 (1,5m³/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
manuell, Prozeßzeit über Timer
oder Automatisch
Druckmessgerät:
Pirani

 

Optionen / Zubehör

Plasmaanlage FEMTO UHP vertikal für Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie - Plasmasysteme
Kleinanlage FEMTO UHP (Version 12) : Prozessentwicklung, Reinigung, Aktivierung, Ätzung in Kleinserie

PREIS: auf Anfrage

Die genannten Preise sind unverbindlich
Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlagen mit uns in Verbindung.

 

   
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