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diener electronic : Tetrafluormethan : Plasma Oberflächentechnologie, Plasmaanlagen, Plasmabeam
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 Tetrafluormethan 
In Plasma-Prozessen häufig einesetztes Prozessgas, insbesondere bei Ätzprozessen. Tetrafluormethan (CF4, auch als Freon 14 bezeichnet) ist unter normalen Bedingungen völlig inert, bildet aber im Plasma freie Fluoratome und CF2- und CF3-Radikale. Diese haben eine sehr starke Ätzwirkung, z. B. auf Siliciumdioxid. Mischungen aus CF4 und O2 ätzen ca. 5 x schneller als reiner Sauerstoff.

   
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