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PLASMAANLAGEN

 

[ OPTIONEN / ZUBEHÖR FÜR PLASMAANLAGEN ]

   
 

Unsere Plasmaanlagen sind mit folgenden Optionen/Zubehör lieferbar:

  1. 13,56 MHz - Generator
    Um DIN EN 55011 einzuhalten, sind unsere 13,56 MHz-Generatoren quarz-stabilisiert. Die Impedanzanpassung ist fest, manuell und automatisch möglich. Hauptanwendungsgebiete sind aktivieren, reinigen, ätzen, Halbleiter (front-end), Halbleiter (back-end), Plasmapolymerisation.


  2. 13.56 Mhz Generator für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  3. 40 kHz - Generator
    Die Impedanzanpassung ist nur automatisch möglich, die Leistung gibt es in zwei Ausführungen. Hauptanwendungsgebiete sind aktivieren, reinigen, ätzen, Halbleiter (back-end), Plasmapolymerisation.


  4. 40 mHz Generator für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  5. 2,45 GHz - Generator (Mikrowelle)
    Die Leistung reicht von 0-300 Watt, der Generator verfügt über eine PC Schnittstelle. Hauptanwendungsgebiete sind aktivieren, reinigen, ätzen, Halbleiter (front-end), Halbleiter (back-end), Plasmapolymerisation.


  6. 2/2 Wegeventil zur Flüssigkeitsdosierung
    Ventil für die gezielte Dosierung von Monomeren.


  7. Halbautomatische Steuerung
    Eine ausführliche Beschreibung unserer verschiedenen Steuerungsvarianten finden Sie unter dem Menüpunkt Plasmaanlagen/Steuerung/halbautomatische Steuerung.



  8. halbautomatische Steuerung für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

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  9. Vollautomatische Steuerung
    Eine ausführliche Beschreibung unserer verschiedenen Steuerungsvarianten finden Sie unter dem Menüpunkt Plasmaanlagen/Steuerung/vollautomatische Steuerung.


  10. vollautomatische Steuerung für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

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  11. PC-Steuerung
    Eine ausführliche Beschreibung unserer verschiedenen Steuerungsvarianten finden Sie unter dem Menüpunkt Plasmaanlagen/Steuerung/PC-Steuerung.


  12. PC-Steuerung für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

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  13. PCCE-Steuerung
    Auf Basis von Windows CE mit Touchpanel. Eine ausführliche Beschreibung unserer verschiedenen Steuerungsvarianten finden Sie unter dem Menüpunkt Plasmaanlagen/Steuerung/PCCE-Steuerung.


  14. PCCE-Steuerung für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

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  15. Aktivkohlefilter
    Der Aktivkohlefilter kann einfach gewechselt werden.

    Aktivkohlefilterfür Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren



  16. Ansaugfilter für Vakuum
    Schützt die Vakuumpumpe vor herum fliegenden Teilen, Beschichtung und vor Verschmutzung.

  17. Ansaugfilter für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren




  18. Automatische Tür
    Eine Tür, die sich bei Prozessstart automatisch schließt.


  19. Automatische Tür geschlossen für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  20. Barcodeleser
    Zur Verfolgung der Chargen.


  21. Barcodeleser für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  22. Beheizbare Kammer
    Die Kammer kann bis ca. 80°C beheizt werden. Die Temperatur ist regelbar. Sie ist für definierte Prozessbedingungen und höhere Ätzraten.

  23. Biasspannungsmessung
    Die Biasspannungsmessung ist ein Messgerät und für kHz- und MHz-Generatoren erhältlich.


  24. Bubblerflasche
    Die Bubblerflasche gehört zum Polymerisationszubehör und ist zum Anschluss flüssiger Monomere an die Vakuumkammer. Anstelle der einfachen Monomerflasche wird mit einem Trägergas gearbeitet. Das Trägergas, z.B. Argon wird durch das Monomer gespült.


  25. Bubblerflasche für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  26. Butterfly-Ventil
    Ein Butterfly-Ventil wird zum Regeln eines Gasstroms eingesetzt, in der Vakuumtechnik v.a. innerhalb der Saugleitung einer Vakuumpumpe. Hierzu wird der Strömungswiderstand in der Leitung durch Verstellen einer Klappe, die die Leitung mehr oder weniger verschließen kann, verändert.


  27. Butterfly-Ventil für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  28. Dokumentation in Landessprache
    Die Dokumentation ist erstellt nach Maschinenrichtlinie 89/392/EWG. Dies gilt nicht für die Sprachen deutsch und englisch. Die Dokumentation ist der Anlage nicht automatisch beigefügt und muss separat dazubestellt werden.


  29. Drehtrommel
    Warenträgerart zur Bestückung mit Schüttgütern.


  30. Drehtrommel für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  31. Druckmessgeräte
    Pirani-Sensor oder Baratron - Anzeige des Drucks in der Vakuumkammer


  32. Druckmessgerät für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimierenPiranisensor für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  33. Druckminderer
    Der Druckminderer ist zum Anschluss an die Gasflasche - 200 bar. Verschiedene Gase benötigen verschiedene Druckminderer. So gibt es einen für Edelgase H2, O2, CF4, C4F8 und einen für NH3.


  34. Druckminderer für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  35. Durchlaufanlagen
    Zur Integration einer Niederdruckplasmaanlage in eine automatische Bearbeitungslinie.


  36. Ersatzteilesatz Standard oder PFPE
    Der Ersatzteilesatz beinhaltet jeweils 1 Spannring, 1 Dichtung, 1 Edelstahl-Wellenschlauch(Vakuumschlauch), 1 Fensterscheibe, 1 Türdichtung, 10 St. Feinsicherungen für die Plasmaanlage, sowie beim Standard-Satz 1 Liter Mineralöl für die Vakuumpumpe und bei dem PFPE-Satz 1 Liter PFPE-Öl für die Vakuumpumpe.


  37. Ersatzteileset für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  38. Etikettendrucker
    Automatischer Ausdruck von Etiketten nach der Plasmabehandlung.


  39. Etikettendrucker für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  40. Etikettenleser
    Zur Verfolgung der Chargen.


  41. Faraday Box / Käfig
    Für elektrisch empfindliche Bauteile. Die zu behandelnden Bauteile liegen in der Faraday Box. Diese kann aus der Vakuumkammer heraus genommen werden.


  42. Faraday Box für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  43. Gasflaschenhalter
    Am Arbeitstisch, an Regalen oder Wandleisten zu befestigen. Die Spannweite betragt 70 mm. Der Spanngurt sichert ohnr Spielraum. Er ist für alle Flaschengrößen geeignet.


  44. Gasflaschenhalter für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  45. Gaswarngerät (Dräger)
    Zusätzliche Sicherheitsoption bei Verwendung von entzündlichen Gasen an Arbeitsplätzen.


  46. Heizplatten
    Die zu behandelnden Teile liegen auf der Heizplatte, diese kann bis max. 150°C beheizt werden und ist für definierte Prozessbedingungen und höhere Ätzraten geeignet. Es gibt zwei Optionen:
    Ausgestattet mit Temperaturanzeigegerät wird innerhalb der Vakuumkammer ein Thermofühler angebracht, damit die Bauteiloberflächentemperatur gemessen werden kann.
    Ausgestattet mit der Temperaturanzeige integriert in die PC-Steuerung wird auch innerhalb der Vakuumkammer ein Thermofühler angebracht und so die Bauteiloberflächentemperatur gemessen werden. Die Temperatur wird hier am Bildschirm angezeigt.


  47. Heizplatte für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  48. Installation Ihrer Plasmaanlage vor Ort
    Diese Option beinhaltet die Reisezeit, die Arbeitszeit sowie die Reisekosten unseres Servicemitarbeiters.

  49. Ionenstrommesssensor
    Zusätzliche Qualitätskontrolle des Plasmas während des Prozesses.


  50. Korrosivgasausführung
    Ventile aus Edelstahl. Verrohrung aus Edelstahl. Zwingend erforderlich bei Plasmapolymerisation oder beim Einsatz korrosiver Gase wie NH3, H2O, CF4, SF6.


  51. Kundenspezifische Warenträger
    Unsere Anlagen werden standardmäßig immer mit einem Warenträger ausgeliefert. Weitere oder andere Ausführungen können nach Rücksprache mit Diener electronic gefertigt werden. Zur optimalen Nutzung der Plasmaanlage.


  52. Kundenspezifischer Warenträger für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  53. Lackspray / Glasplatten-Set (LABS-frei Test)
    Zubehör zur Durchführung des Lack-Benetzungs-Störungs-Tests. Lieferumfang: Lackspray in Dosen, 5 Stück je 400 ml. Die Glasplatten 100 Stück, je 90 mm x 110 mm.


  54. Lackspray für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  55. Langsame Belüftung der Vakuumkammer
    Die Vakuumkammer wird mittels eines Filters langsam belüftet. Es wird das Herumwirbeln von kleinen Bauteilen in der Kammer verhindert.


  56. Langsames Abpumpen der Vakuumkammer
    Langsames Abpumpen der Vakuumkammer durch Bypass-Ventil. Es wird das Herumwirbeln von kleinen Bauteilen in der Kammer verhindert.


  57. Längere Vakuumkammern (Femto, Pico, Nano, ...)
    Gemäß DIN 12198 wurde an unseren Anlagen (Schauglas) eine UV-Bestrahlungsstärkemessung durchgeführt. Resultat: unbedenklich. Vakuumkammern sind in Edelstahl, Borosilikatglas oder Quarzglas lieferbar. Der Kammerverschluss kann dabei zwischen Deckel und Tür mit Scharnier gewählt werden. Die Länge der Vakuumkammern ist von Ihren Anforderungen an die Plasmaanwendung abhängig. Sprechen Sie uns an.


  58. Leistungsanzeige
    Anzeige der Leistung des Generators. Analoganzeige-Instrument.



  59. Leistungsanzeige für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  60. Mehretagen-Elektrode
    Die Mehretagen-Elektrode ist für runde und/oder rechteckige Vakuumkammern lieferbar. Es können mehrere Teile auf einmal behandelt werden. Anwendungsgebiet sind Standard-Plasmaprozesse. Bitte halten Sie Rücksprache mit Diener electronic bezüglich der genauen Konstruktion Ihrer individuellen Elektrode sowie anderen Materialien für die Herstellung der Warenträger.


  61. Mehretagenelektrode für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  62. Mikrowellenlecktester
    Aufgrund der gefährlichen Strahlung, kann es nützlich sein, einen Mikrowellenlecktester bei Mikrowellenanlagen anzubringen.


  63. Monomerflasche
    Polymerisationszubehör. Zum Anschluss flüssiger Monomere an die Vakuumkammer.


  64. Monomerflasche für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  65. Netzwerkanbindung
    Ermöglichtes Verbinden der Anlage mit einem Computer.


  66. OES - Optisches Emissionsspektrometer
    Überwachung des Plasmaprozesses zur Qualitätssicherung. Detektion des Endpunktes des Plasmaprozesses. OES nur in Verbindung mit einer PC gesteuerten Anlage.


  67. Polymerisationszubehör
    Beinhaltet Verdampferflasche, eine Waage, Dosierpumpe, Heizung, evtl. Halterung


  68. Prozessgas-Flasche
    Sauerstoff-Flasche zum Anschließen als Prozessgas in 2, 5 und 10 Liter, Wasserstoff-Flasche in 2 Liter, Argon-Flasche in 5 Liter. Für die Lieferung von Gasen sind spezielle Transportbedingungen zu berücksichtigen. Bei Mietanlagen muss die Flasche gekauft werden.


  69. Quarzglasboot
    In zwei Abmessunge verfügbar. Für ultra hochreine Plasmaprozesse oder Waferbehandlung.


  70. Quarzglasboot für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  71. RIE-Elektrode
    Gibt es in rund und rechteckig aus Edelstahl, erzielt höhere Ätzraten. Anwendungsgebiet ist anisotropes und isotropes Ätzen.


  72. RIE Elektrode für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  73. RIE-Elektrode mit Gasdusche
    Rechteckig aus Edelstahl. erzielt höhere Ätzraten durch homogenere Gasverteilung. Anwendungsgebiet ist das anisotrope Ätzen.


  74. RIE Gasdusche für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  75. Rolle zu Rolle System
    Z. B. zur Behandlung von Folien / Lead-frames



  76. Rolle zu Rolle für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  77. Sauerstoffgenerator
    Sauerstoff wird aus der Umgebungsluft erzeugt. Typ Kröber O2. Sauerstoffleistung: 3-6 l/min.


  78. Sauerstoffgenerator für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  79. Sicherheitsventil
    Für den Betrieb mit brennbaren Gasen wie z. B. Wasserstoff, Ethin ...


  80. Sicherheitsventil für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  81. Sonderelektroden und Warenträger
    Bitte halten Sie Rücksprache mit Diener electronic bezüglich der genauen Konstruktion Ihrer individuellen Elektrode sowie anderen Materialien für die Herstellung der Warenträger.


  82. Sonderelektrode für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  83. Sonderflansche / zusätzliche Flansche
    Sonderflansche werden eingesetzt, wenn mehr als die vorbereiteten Anschlüsse benötigt werden.


  84. Sonderflansche für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  85. Sondervakuumkammern
    Gemäß DIN 12198 wurde an unseren Anlagen (Schauglas) eine UV-Bestrahlungsstärkemessung durchgeführt. Resultat: unbedenklich. Sondervakuumkammern gibt es in den Ausführungen rund mit Deckel, rechteckig und Tür mit Scharnier, sie sind aus Aluminium und unterscheiden sich auch durch den Öffnungsdurchmesser und die Innenabmessung. Sprechen Sie uns an.


  86. Sondervakuumkammer für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  87. Standard-Elektrode rund oder rechteckig
    Aus Edelstahl/Aluminium-Blech für Standard-Plasmaprozesse.


  88. TEM Probenhalter
    Spezielle Vorrichtung zum Einführen von außen in die Plasmakammer. Jede Größe ist realisierbar. Bitte teilen Sie uns die Maße/Zeichnungen Ihrer Teile mit.


  89. TEM Probehalter für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  90. Temperaturanzeigegerät
    Temperaturanzeige der Kammertemperatur ohne Heizplatte. Innerhalb der Vakuumkammer wird ein Thermofühler angebracht. Es kann damit die Bauteiloberflächentemperatur gemessen werden. Die Temperaturanzeige gibt es auch integriert in die PC-Steuerung. Hier wird die Temperatur am Bildschirm angezeigt.


  91. Temperaturanzeigegerät für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  92. Testtinten-Set
    Testtinten zur einfachen Analyse der Oberflächenspannung. 28, 38, 56, 64, 72 und 105 mN/m sind in einem Satz enthalten. Andere Werte sind auf Anfrage lieferbar.


  93. Testtinten Set für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  94. Thermischer Verdampfer
    Für Substanzen mit niedrigem Dampfdruck. Napf-Durchmesser: 16 mm, Napf-Volumen: 0,1 l. Abschirmung gegen Plasmaeinwirkung, Kontrolle der Temperatur (max. 500°C) und der Temperaturanstiegsgeschwindigkeit (bis zu 250°C/min). Der Anschluss erfolgt über Kleinflansch-Durchführung.


  95. Timer LT4H
    Anstatt Standard-Timer zum Einstellen der Prozesszeit.


  96. Timer für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  97. Vakuumkammern aus Glas (Borosilikat oder Quarz)
    Vakuumkammern aus Borosilikatglas sind für hochreine Plasmaprozesse, Vakuumkammern aus Quarzglas sind für ultra hochreine Plasmaprozesse.


  98. Vakuumkammer aus Glas für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  99. Vakuumkammern aus Edelstahl
    Vakuumkammern aus Edelstahl sind für Standard-Plasmaprozesse.


  100. Vakuumkammer aus Glas für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  101. Vakuumpumpstände
    Drehschieber- oder Trockenlaufpumpe mit Mineral- oder PFPE-Öl. Die Pumpen werden ölgefüllt geliefert.


  102. Vorrichtung zur Behandlung von Pulver
    Pulver wird in einer rotierenden Gasflasche behandelt. Zum Befüllen kann die Flasche aus der Anlage genommen werden.


  103. Vorrichtung für Pulverbeschichtung für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  104. Wasserkühlung
    Wasser-Luft-Kühlung mit Rollen für mobilen Einsatz. Anschluss potenzialfrei durch 2 Wechsler-Kontakte für Pumpenschutzschaltung.


  105. Wasserkühlung


  106. Wartungsangebot für Ihre Plasmaanlage
    Das Wartungsangebot von Diener electronic beinhaltet einen lückenlosen Service. Ölwechsel, Kontrolle aller Anschlüsse, Dichtungen, Stecker usw., Leckratentest, Abgleich des Drucksensors sowie eine Funktionsprüfung. Für mehr Informationen zum Thema Wartung und Service klicken Sie auf den Menüpunkt Beratung/Service.

  107. Wäschesack
    Für die Vorreinigung von Kleinteilen in der Waschmaschine. Abmessungen: 500 mm x 300 mm. Mindestbestellmenge: 20 Stück.


  108. Wäschesack für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren


  109. Waschtrockner
    Für die Erstreinigung von Kleinteilen vor der Plasmabehandlung. Nur bei stark verschmutzten Teilen nötig. Hersteller: Miele: Typ WT 2670 WPM.


  110. Wassergekühlte Warenträger-Platte
    Die wassergekühlte Platte wird am Kammerboden montiert und wird inklusive Wasserpumpe und Wasserbehälter geliefert. Sie wird eingesetzt zur Kühlung von wärmeempfindlichen Teilen.


  111. Weitere Software-Funktionen
    Die Software kann jederzeit um weitere Optionen erweitert werden. Bitte teilen Sie uns Ihre Anforderungen mit.


  112. Zusätzliche Gaskanäle
    Nadelventile: Unsere Anlagen können mit beliebig vielen Nadelventilen ausgestattet werden. Standard bei der Plasmaanlage vom Typ Femto sind 1-3 Stück, weitere sind auf Anfrage möglich.


  113. Nadelventil für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

  114. Zusätzliche MFCs
    MFCs: Bei den Steuerungen PC und PCCE erforderlich. Unsere Anlagen können mit beliebig vielen Mass-Flow-Controllern (MFCs) ausgestattet werden.


  115. MFC für Plasmaanlage, je nach Plasmaanlage individueller Typ, um geeigneten Plasmaprozess durchzuführen, Oberflächen modifizieren, Plasmaanwendung optimieren

Die Optionen können in den meisten Fällen auch nachgerüstet werden.
 
   
     
   
   
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