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diener electronic : Siliciumdioxid : Plasma Oberflächentechnologie, Plasmaanlagen, Plasmabeam
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 Siliciumdioxid 
SiO2, Häufigste Verbindung der Erdkruste, hart und thermisch beständig, sehr guter Isolator. Sehr häufiger Einsatz in der Mikroelektronik als Isolator-Schicht, meist hergestellt durch Oxidation von reinem Silicium. Kann mittels Halogen- (insbesondere Fluor-)haltiger Gase im Plasma geätzt werden, wodurch das darunterliegende Silicium wieder freigelegt wird.

   
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