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 Photolack 
Ein Fotolack oder auch Resist ist ein Lack, der unter Bestrahlung mit Licht seine Struktur verändert.Unterschieden wird zwischen Positiv- und Negativ-Lacken. Bei Positiv-Lacken werden die belichteten Bereiche mit einer geeigneten Entwicklerlösung herausgelöst. Bei Negativ-Lacken verhält es sich umgekehrt.Fotolacke werden insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich verwendet.

   
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