diener electronic  |  Plasma-Surface-Technology Plasma Plasma systems Surface-Technology
german english spanish usa turkish italian french
russian polish czech chinese japonese taiwanese korean
 
 
 

PLASMAANLAGEN - STANDARDANLAGEN

 

[ NANO UHP]

   
  Die Kleinanlage NANO UHP mit ihren 18 Litern Kammervolumen und halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
  • Kleinserienfertigung
  • Analytik (REM, TEM)
  • Elektrotechnik
  • Medizintechnik
  • Kunststofftechnik
  • Elastomertechnik
  • Forschung und Entwicklung

UHP steht für Ultra High Purity. Diese Bezeichnung gilt für die Glasrezipienten unserer Plasmaanlagen, diese können je nach Kundenwunsch aus Borosilikatglas oder Quartzglas sein. Die Option UHP ist nur für folgende Anlagen erhältlich: Femto, Pico und Nano.

Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet. Da die Anlage keinen Edelstahl - Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind.

   
   
 
 

Technische Daten:

Schaltschrank:
B 580 mm, H 650 mm, T 600 mm
Kammer:
Ø 240 mm, L 400 mm
(Optional: L 600 mm)
Kammeröffnung Ø: 230 mm
Werkstoffe: Quarz oder Borosilikatglas Vorder- u. Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 18 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventil
Generator:
40kHz/300W, stufenlos
(Optional: 13,56 MHz o. 2,45 GHz)
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ D8B (8 m³/h)
Teile-Aufnahme:

1 St. Warenträger
Steuerung:
halbautomatisch, Prozeßzeit über Timer

Optionen / Zubehör

 
Plasmaanlage NANO UHP - mit halbautomatischer Steuerung: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung - Plasma Ätzer


Kleinanlage NANO UHP mit halbautomatischer Steuerung: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

PREIS: auf Anfrage

 

Kleinanlage NANO UHP mit Scharniertür und vollautomatischer Steuerung:
Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

 

PREIS: auf Anfrage

Plasmaanlage NANO UHP mit vollautomatischer Steuerung und Scharniertür: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung - Plasmastripper
 
  

Kleinanlage NANO UHP mit vollautomatischer Steuerung:
Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

 

PREIS: auf Anfrage

Plasmaanlage NANO UHP mit vollautomatischer Steuerung: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung - Plasmastripper
  

Kleinanlage NANO RF UHP mit Scharniertür, vollautomatischer Steuerung, manueller Matching, Temperaturanzeige und integrierter Pumpe: Für Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

 

PREIS: auf Anfrage

Plasmaanlage NANO RF UHP mit vollautomatischer Steuerung und Scharniertür: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung - Plasmastripper
  

Kleinanlage NANO UHP PCCE mit
PCCE Steuerung
:
Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung

 

PREIS: auf Anfrage

Plasmaanlage NANO UHP mit vollautomatischer Steuerung: Reinigung, Aktivierung, Ätzung, Beschichtung - Plasmastripper
  
   
 

Bitte setzen Sie sich wegen technischer Beratung für diese Anlage mit uns in Verbindung.

   
   
   
  Home | Plasmatechnik | Lexikon | FAQ | Plasmaanlagen | Dienstleistungen | Links/Vertretungen | Referenzen | Messen | Kontakt | Anfahrt | Stellenangebote | Wir über uns | Infocenter / Presse
  © 2009 Diener electronic GmbH + Co. KG