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PACVD
Abreviación de "Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition", es decir "Deposición química en fase de vapor asistida por plasma". Este método se usa para la deposición de carburos y nitruros, siendo esto posible con temperaturas mucho mas bajas (450-500 °C) que con el método CVD análogo sin asistencia de plasma (1.000 °C).
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