Ana sayfa
Plazma tekniği
Sözlük
SSS
Plazma sistemleri
Temsilcilerimiz
Fuarlar
Bize ulaşın
Ulaşım
Hakkımızda
PACVD
Plazma assisted chemical vapour deposition kısaltmasıdır, yani plazma desteği ile kimyasal buhar ayırımıdır. Yöntem örneğin carbit ve nitrit leri ayırmada kullanılır, bu uygulamada en düşük derece (450-500°C dir) ve buna analog CVD-yöntemi uygulanır. Burda plazma desteğine (1000°C) ihtiyaç yoktur.
Ana sayfa
|
Plazma tekniği
|
Sözlük
|
SSS
|
Plazma sistemleri
|
Temsilcilerimiz
|
Fuarlar
|
Bize ulaşın
|
Ulaşım
|
Hakkımızda
© 2008 Diener electronic GmbH + Co. KG
