diener electronic : Fotolack : Plasma Oberflächentechnologie, Plasmaanlagen, Plasmabeam


	Fotolack Fotoresist, flüssiger oder fester Film, der sich nach dem Belichten mit vorzugsweise UV-Licht entwickeln läßt. Positivresiste werden durch Belichtung soweit entnetzt bzw. chemisch verändert (Änderung des Säurecharakters), daß die belichteten Stellen durch spezielle Entwickler (chlorierte Kohlenwasserstoffe, verdünnte Natronlauge oder Sodalösung, warmes Wasser u. ä.) herausgelöst werden. Bei Negativresisten ist der Vorgang umgekehrt, die belichteten Stellen werden stärker vernetzt. Je nach Dicke und chemischem Verhalten unterscheidet man Galvano- oder Ätzresiste.

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