Home
Tecnología del Plasma
Diccionario
Preguntas Frequentes
Sistemas de Plasma
Links/Representantes
Exposiciones
Contacto
Ruta de llegada
Nosotros
CVD
La tecnología de CVD (Chemical Vapour Deposition) permite la producción de recubrimientos sobre un material, partiendo de unos determinados gases precursores que reaccionan por medio de una activación térmica. La generación de una descarga de plasma entre dos electrodos, con objeto de activar la reacción química y producir recubrimientos a menores temperaturas, ha dado lugar al proceso conocido como Plasma CVD. Procesos de CVD pueden ser reforzados por plasma (PECVD = Plasma Enhanced CVD) o iniciados por plasma (PACVD = Plasma Activated CVD). Aplicaciones importantes son recubrimientos amorfos de carbono, silicio asi como de nitruros y carburos de titanio o nitruros de silicio.
Home
|
Tecnología del Plasma
|
Diccionario
|
Preguntas Frequentes
|
Sistemas de Plasma
|
Links/Representantes
|
Exposiciones
|
Contacto
|
Ruta de llegada
|
Nosotros
© 2008 Diener electronic GmbH + Co. KG
